本文へスキップします。
日本真空光学では、半導体製造装置、および液晶やOLED用の設備装置向けに使用されるフィルター・ミラーの製作を行っています。 同分野のフィルター・ミラーの膜質には、紫外線光源への高い耐久性が求められます。 近年では波長の短い紫外線光源の使用の増加に伴い、従来よりも、さらに高耐久性の膜質の要求が強くなってきました。 そこで当社では、成膜プロセスの最適化を図り、従来に比べて高耐久性の膜質を得る事に成功しました。これは、使用する膜材料の分光損失を低減出来た事が大きく影響しています。 また使用される光源により、求められる耐久性が異なる事も考慮し、常に最適な製品を提供出来る様、成膜プロセスと材料の選択も行っております。 日本真空光学では、今後もお客様のご要求にお応え続けるため、半導体分野へのフィルター・ミラーの開発に注力して行きます。