会社概要

名称

日本真空光学

英文

Optical Coatings Japan

設立

1960年10月21日（昭和35年）

役員

代表取締役

和田賢憲

取締役

久保岳 加藤伸一郎 山川博 金喜則 砂山高徳

監査役

藤井竜夫 河本康志

資本金

21,000万円
（授権資本28,000万円）

決算月

12月

従業員

104名

事業内容

薄膜加工法による各種光学用部品の製造並びに販売

他社製品の販売及び開発受託業務

三菱UFJ銀行・本店

1946年 昭和21年

神奈川県逗子市に「薄膜技術研究所」を創業。国内における「レンズコーティングの企業化」の先駆けとなる。

1952年 昭和27年

「(株)湘南光膜研究所」と改称し、品川区戸越に移転。

1960年 昭和35年

「(株)湘南光膜研究所」より多層薄膜部門を分離。「日本真空光学(株)」として発足。

1961年 昭和36年

新技術事業団より「多層薄膜光学製品」の開発委託を受け、新工場を東京都品川区戸越に建設。開発を開始。

1963年 昭和38年

「多層薄膜光学製品」の開発完了。開発審議会より開発成功の認定を受け、企業化に移行。東京通商産業局より「遮光眼鏡レンズ」の試作に対し、中小企業輸出振興試作奨励費補助金を受ける。

1964年 昭和39年

資本金200万円に増資。工業技術院所有の「光電式蒸着膜厚を観測する方法」の特許実施権を受け、「光電式膜厚監視装置」の製造を開始。

1969年 昭和44年

資本金500万円に増資。静岡県御殿場市中畑に新工場を建設。新技術開発財団より、「完全反射防止膜の製造技術」開発のため、技術開発費を受ける。

1971年 昭和46年

資本金1,000万円に増資。東京通商産業局より「高性能レーザーミラー」の試作に対し、技術改善費補助金を受ける。

1977年 昭和52年

資本金2,000万円に増資。御殿場工場を増設。東京通商産業局より「エキシマレーザー反射鏡」の研究に対し、技術改善費補助金を受ける。

1979年 昭和54年

資本金3,000万円に増資。新技術事業団より、干渉薄膜応用製品に関する「高周波イオンプレーティング技術」の適用実施権を得る。

1980年 昭和55年

東京通商産業局より、「高耐久性深型コールド･ミラーの試作」に対し、技術改善費補助金を受ける。

1983年 昭和58年

資本金4,000万円に増資。大阪営業所開設。御殿場第二工場開設。

1985年 昭和60年

高周波プラズマ･イオン･プロセス技術を開発。

1986年 昭和61年

資本金6,000万円に増資。三重県久居市に関連会社「伊勢真空光学(株)｣を設立。

1987年 昭和62年

資本金7,000万円に増資。

1989年 平成元年

伊勢真空光学(株)の工場を増設。

1992年 平成04年

AGCグループ傘下に入る。

1996年 平成08年

御殿場工場を増改築し、御殿場第二工場を統合。

1998年 平成10年

伊勢真空光学(株)を吸収合併し、三重工場とする。資本金21,000万円に増資。

2003年 平成15年

タイ・イワキガラスCo Ltd.へ生産を展開。

2004年 平成16年

ISO 9001, 2000 UKAS の認証取得。

2006年 平成18年

ISO 14001, 2004 UKAS の認証取得。

2007年 平成19年

新技術センター＜クリーンルーム仕様＞竣工。