日本真空光学株式会社 - Optical Coatings Japan
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会社紹介

沿革

1946年(昭和21年) 神奈川県逗子市に「薄膜技術研究所」を創業。国内における「レンズコーティングの企業化」の先駆けとなる。
1952年(昭和27年) 「(株)湘南光膜研究所」と改称し、品川区戸越に移転。
1960年(昭和35年) 「(株)湘南光膜研究所」より多層薄膜部門を分離。「日本真空光学(株)」として発足。
1961年(昭和36年) 新技術事業団より「多層薄膜光学製品」の開発委託を受け、新工場を東京都品川区戸越に建設。開発を開始。
1963年(昭和38年) 「多層薄膜光学製品」の開発完了。開発審議会より開発成功の認定を受け、企業化に移行。東京通商産業局より「遮光眼鏡レンズ」の試作に対し、中小企業輸出振興試作奨励費補助金を受ける。
1964年(昭和39年) 資本金200万円に増資。工業技術院所有の「光電式蒸着膜厚を観測する方法」の特許実施権を受け、「光電式膜厚監視装置」の製造を開始。
1969年(昭和44年) 資本金500万円に増資。静岡県御殿場市中畑に新工場を建設。新技術開発財団より、「完全反射防止膜の製造技術」開発のため、技術開発費を受ける。
1971年(昭和46年) 資本金1,000万円に増資。東京通商産業局より「高性能レーザーミラー」の試作に対し、技術改善費補助金を受ける。
1977年(昭和52年) 資本金2,000万円に増資。御殿場工場を増設。東京通商産業局より「エキシマレーザー反射鏡」の研究に対し、技術改善費補助金を受ける。
1979年(昭和54年) 資本金3,000万円に増資。新技術事業団より、干渉薄膜応用製品に関する「高周波イオンプレーティング技術」の適用実施権を得る。
1980年(昭和55年) 東京通商産業局より、「高耐久性深型コールド・ミラーの試作」に対し、技術改善費補助金を受ける。
1983年(昭和58年) 資本金4,000万円に増資。大阪営業所開設。御殿場第二工場開設。
1985年(昭和60年) 高周波プラズマ・イオン・プロセス技術を開発。
1986年(昭和61年) 資本金6,000万円に増資。三重県久居市に関連会社「伊勢真空光学(株)」を設立。
1987年(昭和62年) 資本金7,000万円に増資。
1989年(平成元年) 伊勢真空光学(株)の工場を増設。
1992年(平成04年) 旭硝子グループ傘下に入る。
1996年(平成08年) 御殿場工場を増改築し、御殿場第二工場を統合。
1998年(平成10年) 伊勢真空光学(株)を吸収合併し、三重工場とする。資本金21,000万円に増資。
2003年(平成15年) タイ・イワキガラスCo Ltd.へ生産を展開。
2004年(平成16年) ISO 9001, 2000 UKAS の認証取得。
2006年(平成18年) ISO 14001, 2004 UKAS の認証取得。
2007年(平成19年) 新技術センター<クリーンルーム仕様>竣工



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